반도체 제조공정.. 전 공정, 후 공정 알아보기
반도체 8대 공정 반도체 8대 공정은 Wafer 제조, 산화공정, 포토공정, 식각공정, 박막공정, 금속배선 공정, EDS, 패키징으로 진행됩니다 | 반도체 제조 공정 (반도체 전 공정, 후 공정) 반도체 제조에는 기능적 집적 회로(IC)를 생산하는 데 중요한 단계인 전 공정 및 후 공정이 포함됩니다. 사전 공정에는 실리콘 웨이퍼에 깨끗하고 평평하며 균일한 표면을 만드는 일련의 단계가 포함됩니다. 첫 번째 단계는 웨이퍼 표면의 오염 물질을 제거하는 웨이퍼 세정입니다. 그런 다음, 포토레지스트 층이 웨이퍼에 적용된 후 패터닝됩니다. 여기서 포토레지스트는 패턴화된 광원에 노출되고 후속 공정 단계를 위한 패턴을 생성하기 위해 현상됩니다. 에칭은 패턴화된 포토레지스트에 따라 웨이퍼에서 재료를 제거하는 공정입니다...
2023. 4. 4.
